Ваш браузер устарел!

Браузер, которым вы пользуетесь для просмотра этого сайта, устарел и не соответствует современным технологическим стандартам Интернета.

Вы можете установить последнюю версию подходящего браузера, воспользовавшись ссылками ниже:


Вернуться к списку ЦКП

Микросистемная техника и электронная компонентная база

Сокращенное наименование ЦКП: МСТ и ЭКБ

Базовая организация: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования «Национальный исследовательский университет «Московский институт электронной техники»

Ведомственная принадлежность: Минобрнауки России

Год создания ЦКП: 2002

Сайт ЦКП: http://ckp-miet.ru/

Заказать услуги ЦКП

Контактная информация:

Местонахождение ЦКП:

  • Федеральный округ: Центральный
  • Регион: г. Москва
  • 124498, г. Зеленоград, площадь Шокина, дом 1

Руководитель ЦКП:

  • Дюжев Николай Алексеевич, кандидат физико-математических наук
  • +7 (499) 7206908
  • djuzhev@ntc-nmst.ru

Контактное лицо:

  • Махиборода Максим Александрович, кандидат физико-математических наук
  • +7 (499) 7206908
  • m.makhiboroda@gmail.com

Сведения о результативности за 2017 год (данные ежегодного мониторинга)

Участие в мониторинге: даЧисло организаций-пользователей, ед.: 22Число публикаций, ед.: 48Загрузка в интересах внешних организаций-пользователей, %: 67.34

Краткое описание ЦКП:

Центр коллективного пользования "Микросистемная техника и электронная компонентная база" созданный в 2002 году,является самостоятельным структурным подразделением МИЭТ. ЦКП проводит научные исследования и разработки, а также предоставляет научно-технические услуги учреждениям, предприятиям и организациям. ЦКП оснащен новейшим оборудованием мирового уровня, которое позволяет реализовать замкнутый технологический маршрут проектирования интегральных схем с последующим изготовлением фотошаблонов и организацией мелкосерийного производства конечной продукции на отечественных производственных мощностях.
В состав ЦКП входят подразделения:
- Нано-технологический центр "Нано- и микросистемной техники";
- Дизайн-центр "Проектирование интегральных микроэлектронных систем";
- Центр "Технологии и испытания электронных компонентов";
- Центр "Интеллектуальные электронные энергосберегающие системы".

Направления научных исследований, проводимых в ЦКП:

  • фундаментальные и прикладные исследования в области микросистемной техники и микроэлектроники;
  • проведение работ в области проектирования микросистемной техники и элементной микроэлектронной базы, приборно-технологического моделирования;
  • разработка и создание образцов микросистемной техники;
  • разработка и создание элементной базы микроэлектроники;
  • подготовка высококвалифицированных специалистов, кадров высшей квалификации, повышение квалификации и переподготовка специалистов.

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):

  • Индустрия наносистем
  • Энергоэффективность, энергосбережение, ядерная энергетика
  • Информационно-телекоммуникационные системы

Фотографии ЦКП:

Научное оборудование ЦКП: (номенклатура — 65 ед.)

4-х кан. установка хим. осаждения из газ. фазы при пониж. давлении и плазм. активации SVFUR-PEH4
Страна происхождения:  Чехия
Год выпуска:  2007
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  не указано

4-х канальная печь SVFUR-AH4-1 . компания SVCS
Марка:  SVFUR-AH4
Фирма-изготовитель:  SVCS
Страна происхождения:  Чехия
Год выпуска:  2007
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  не указано

4-х канальная печь SVFUR-AH4-2 . компания SVCS
Страна происхождения:  Чехия
Год выпуска:  2007
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  не указано

4-х канальная установка хим.осаждения из газовой фазы при пониж.давлении SVFUR
Страна происхождения:  Чехия
Год выпуска:  2007
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  не указано

Автомат разварки выводов 64000 G5
Марка:  64000 G5
Фирма-изготовитель:  F & K DELVOTEC Bondtechnik GmbH
Страна происхождения:  Германия
Год выпуска:  2005
Количество единиц:  1

Вакуумная печь
Марка:  SRO-706
Фирма-изготовитель:  ATV Technologie GmbH
Страна происхождения:  Германия
Год выпуска:  2007
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  нет

Вакуумная электроннолучевая система для исследования морфологии, элементного состава и формирования рисунка изделий микросистемной техники на базе растрового электронного микроскопа JSM-6490LV
Марка:  JSM-6490LV
Фирма-изготовитель:  JEOL (Japanese Electron Optics Laboratory, Джеол)
Страна происхождения:  Япония
Год выпуска:  2008
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  да

Времяпролетный вторично-ионный масс-спектрометр TOFSIMS-5-100 (IonTOF)
Марка:  TOFSIMS-5-100
Фирма-изготовитель:  IonTOF
Страна происхождения:  Германия
Год выпуска:  2012
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  не указано

Высоковакуумная низкотемпературная система для исследования нанорельефа, электростатических, магнитных и тепловых свойств наноструктур методами ACM/CTM/MCM PlasmoScope-2M
Марка:  PlasmoScope-2M
Фирма-изготовитель:  ТД «Научное Оборудование»
Страна происхождения:  Россия
Год выпуска:  2015
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  не указано

Двулучевая система высокого разрешения FEL Quanta 3D FEG DEMO
Марка:  Quanta 3D FEG
Фирма-изготовитель:  FEI Company
Страна происхождения:  Германия
Год выпуска:  2008
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  не указано

Дифрактометр многофункциональный Rigaku SmartLab
Марка:  SmartLab
Фирма-изготовитель:  Rigaku
Страна происхождения:  Япония
Год выпуска:  2014
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  не указано

Зондовая установка для тестирования микросхем в составе пластин UF200A TOKYO
Марка:  UF200A
Фирма-изготовитель:  TOKYO SEIMITSU CO., LTD
Страна происхождения:  Япония
Год выпуска:  2007
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  нет

Зондовая установка контроля электрических параметров Cascade Summit 12K
Марка:  Summit 12K
Фирма-изготовитель:  Cascade Microtech
Страна происхождения:  Соединённые Штаты Америки
Год выпуска:  2011
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  нет

Камера климатическая программируемая Espeс MC-811P
Марка:  MC-811P
Фирма-изготовитель:  Espeс
Страна происхождения:  Япония
Год выпуска:  2007
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  нет

Кластерная установка плазмохимического травления диэлектрических слоев
Марка:  STS
Фирма-изготовитель:  STS
Страна происхождения:  Соединённые Штаты Америки
Год выпуска:  2008
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  нет

Комплект блоков и оснастки IE350 X-Max20 (Premium) для проведения энергодисперсионного микроанализа для электронного микроскопа JEOL JSM-6490LV
Марка:  INCA Energy 350 X-Max20
Фирма-изготовитель:  Oxford Instruments
Страна происхождения:  Великобритания
Год выпуска:  2011
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  не указано

Комплект блоков и оснастки MK3 COOLSTAGE для проведения экспериментов при пониженных и повышенных температурах для растрового электронного микроскопа
Марка:  MK3 COOLSTAGE
Фирма-изготовитель:  Deben
Страна происхождения:  Великобритания
Год выпуска:  2010
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  нет

Комплект блоков и оснастки XeDraw 2 для управления пучком и прецизионной засветки фоторезиста на поверхности полупроводниковых подложек для растрового электронного микроскопа
Марка:  XeDraw 2
Фирма-изготовитель:  Xenos
Страна происхождения:  Германия
Год выпуска:  2011
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  нет

Контрольно-измерительный стенд для воспроизведения рельефа поверхности объекта и обеспечения высококачественного 3-х мерного компьютерного изображения (Оптический профилометр)
Марка:  Veeco Wyko NT 9300
Страна происхождения:  Соединённые Штаты Америки
Год выпуска:  2010
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  не указано

Лазерный конфокальный микроскоп VL 2000 DХ (Lasertech)
Марка:  VL 2000 DХ
Фирма-изготовитель:  Lasertech
Страна происхождения:  Япония
Год выпуска:  2008
Количество единиц:  1

Линия герметизации корпусов методом роликовой шовной сварки с вакуумной печью и возможностью корпусирования в гелиевой среде
Марка:  HPS 9206М
Фирма-изготовитель:  Pyramid Engineering Systems Ltd.
Страна происхождения:  Великобритания
Год выпуска:  2007
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  нет

Микроскоп МИКРО2001-01
Марка:  Микро 2001-01
Фирма-изготовитель:  УП "КБТЭМ-СО"
Страна происхождения:  Белоруссия
Год выпуска:  2009
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  не указано

Оже-микрозонд PHI-670xi (Physical Electronics) в составе Специализированного программно-технического комплекса коллективного пользования для количественного элементного 3D анализа изделий нано- и микросистемной техники
Марка:  PHI-670xi
Фирма-изготовитель:  Physical Electronics
Страна происхождения:  Соединённые Штаты Америки
Год выпуска:  2012
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  не указано

Оптический микроскоп Vistec lNM100
Марка:  INM100
Фирма-изготовитель:  KLA-Tencor
Страна происхождения:  Соединённые Штаты Америки
Год выпуска:  2007
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  не указано

Оптический микроскоп Vistec lNM100/DFC290 с цветной цифр.камерой
Страна происхождения:  Соединённые Штаты Америки
Год выпуска:  2007
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  не указано

Оптический микроскоп Vistec lNM100/DFC290 с цветной цифр.камерой
Страна происхождения:  Соединённые Штаты Америки
Год выпуска:  2007
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  не указано

Оптический микроскоп Vistec lNM200 UV высокого разрешения
Страна происхождения:  Соединённые Штаты Америки
Год выпуска:  2007
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  не указано

Оптический микроскоп VL2000D высокого разрешения
Страна происхождения:  Соединённые Штаты Америки
Год выпуска:  2007
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  не указано

Программно-аппаратный комплекс Vistec для проведения процессов с фотошаблонами размером 7 дюймов
Марка:  7012
Фирма-изготовитель:  Vistec
Страна происхождения:  Германия
Год выпуска:  2011
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  нет

Программно-аппаратный комплекс ДМТ-518 (Электроникс)
Марка:  ДМТ-518
Фирма-изготовитель:  ДМТ-Электроникс
Страна происхождения:  Белоруссия
Год выпуска:  2010
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  не указано

Программно-технический комплекс коллективного пользования для проектирования и испытаний систем-на-кристалле и сенсоров физических, биологических и химических (установка измерения поверхностного сопротивления quad pro)
Марка:  QuadPRO
Фирма-изготовитель:  Lucas Labs
Страна происхождения:  Соединённые Штаты Америки
Год выпуска:  2010
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  нет

Профилометр Alpha-Step D120 в составе Специализированного программно-технического комплекса коллективного пользования для количественного элементного 3D анализа изделий нано- и микросистемной техники
Марка:  Alpha-Step D120
Фирма-изготовитель:  KLA-Tencor
Страна происхождения:  Соединённые Штаты Америки
Год выпуска:  2012
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  да

Проходная камера CK-581 (Multitest Elektronische System)
Марка:  CK-581
Фирма-изготовитель:  Multitest Elektronische System GmbH
Страна происхождения:  Германия
Год выпуска:  2010
Количество единиц:  1

Рентгеноскопическая цифровая система контроля микросхем с функцией томографии
Марка:  XD7600NT
Фирма-изготовитель:  DAGE Precision Industries Ltd.
Страна происхождения:  Великобритания
Год выпуска:  2007
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  нет

Система бесконтактного измерения температуры и теплового анализа SC5700 M (FLIR System)
Страна происхождения:  Соединённые Штаты Америки
Год выпуска:  2010
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  не указано

Система лазерного разделения пластин со структурами, формируемыми по технологии 3D-сборки
Фирма-изготовитель:  НИИПМ
Страна происхождения:  Россия
Год выпуска:  2017
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  не указано

Система обрезки и формовки выводов 5000L-F-3A-F-1A/4 Fancort Industries, Inc.
Марка:  5000L-F-3A-F-1A/4
Фирма-изготовитель:  Fancort Industries, Inc.
Страна происхождения:  Соединённые Штаты Америки
Год выпуска:  2007
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  нет

Система по изучению магнитооптического эффекта Керра Neoark BH-PI7892-KI
Марка:  BH-PI7892-KI
Фирма-изготовитель:  Neoark
Страна происхождения:  Япония
Год выпуска:  2014
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  не указано

Система реактивно-ионного травления и обработки поверхности фотошаблона Corial 300S с дополнительными опциями
Марка:  Corial 300S
Фирма-изготовитель:  CORIAL
Страна происхождения:  Франция
Год выпуска:  2015
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  не указано

Система электрохимического формирования слоев металла в структурах 3D сборки
Фирма-изготовитель:  НИИПМ
Страна происхождения:  Россия
Год выпуска:  2017
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  не указано

Сканирующее зондовое устройство для исследования морфологии, тепловых и магнитных полей изделий микросистемной техники на базе атомно-силового микроскопа Smart SPM фирмы AIST-NT
Марка:  SmartSPM
Фирма-изготовитель:  AIST-NT
Страна происхождения:  Россия
Год выпуска:  2009
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  не указано

Сканирующий спектральный эллипсометр HORIBA UVISEL 2
Марка:  Uvisel 2
Фирма-изготовитель:  HORIBA (Хориба)
Страна происхождения:  Франция
Год выпуска:  2015
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  не указано

Спектральное устройство для исследования оптических характеристик многослойных тонкопленочных структур на базе эллипсометра AutoSE фирмы Horiba
Марка:  AutoSe System
Фирма-изготовитель:  HORIBA Jobin Ivon
Страна происхождения:  Франция
Год выпуска:  2009
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  не указано

Стенд измерения и контроля параметров аналоговых микросхем и устройств ДМТ-219
Марка:  ДМТ-219
Фирма-изготовитель:  ДМТ-Электроникс
Страна происхождения:  Белоруссия
Год выпуска:  2010
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  да

Сухожаровой термошкаф
Марка:  CR-30
Фирма-изготовитель:  Carbolite
Страна происхождения:  Великобритания
Год выпуска:  2007
Количество единиц:  3
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  нет

Технологический комплекс жидкостного травления и химической обработки кремния Mercury style (SCR) в составе: установки жидкостного травления SCP (9 ед.) и кислотные процессоры SCR Mercury style (2 ед.)
Марка:  Mercury style
Фирма-изготовитель:  SCR
Страна происхождения:  Чехия
Год выпуска:  2005
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  не указано

Технологический комплекс фотолитографии и оптического контроля EVG 150 в составе: установки контактной фотолитографии МА-150Е BSA, установки контактной фотолитографии и совмещения подложек МА6/ВА 6, установки контактной фотолитографии МА-150Е BSA, установ
Марка:  EVG 150
Фирма-изготовитель:  EVG
Страна происхождения:  Австрия
Год выпуска:  2007
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  не указано

Установка гидрообработки разделенных пластин
Марка:  UH 117
Фирма-изготовитель:  SCR Engineering s.r.o.
Страна происхождения:  Чехия
Год выпуска:  2007
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  нет

Установка для акустических исследований объемных структур KSI v-350lm
Марка:  KSI v-350lm
Фирма-изготовитель:  KSI Sonic Industries GmbH
Страна происхождения:  Германия
Год выпуска:  2012
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  нет

Установка для зондового контроля и анализа микросхем PM5
Марка:  PM5 Probe System
Фирма-изготовитель:  Cascade Microtech
Страна происхождения:  Соединённые Штаты Америки
Год выпуска:  2010
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  нет

Установка для ионного травления и полировки Fischione Instruments Model 1060 SEM Mill в составе Специализированного программно-технического комплекса коллективного пользования для количественного элементного 3D анализа изделий нано- и микросистемной тех
Марка:  Model 1060 SEM Mill
Фирма-изготовитель:  Fischione Instruments
Страна происхождения:  Соединённые Штаты Америки
Год выпуска:  2012
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  нет

Установка контроля акустических шумов LPD-4000.BGW
Марка:  LPD-D4000
Фирма-изготовитель:  B
Страна происхождения:  Соединённые Штаты Америки
Год выпуска:  2004
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  не указано

Установка контроля герметичности с камерой опрессовки в гелии HLT-560-VC
Марка:  HLT 560
Фирма-изготовитель:  Pyramid Engineering Systems Ltd.
Страна происхождения:  Великобритания
Год выпуска:  2007
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  нет

Установка контроля топологии ЭМ-6329Р
Марка:  ЭМ-6329
Фирма-изготовитель:  УП КБТЭМ-ОМО
Страна происхождения:  Белоруссия
Год выпуска:  2010
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  не указано

Установка монтажа кристаллов методом флип-чип с возможностью эвлектич.пайки РР5/4
Марка:  PP5/4
Фирма-изготовитель:  Cefor Ingenierie
Страна происхождения:  Франция
Год выпуска:  2007
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  не указано

Установка монтажа кристаллов с возможностью эвтектической пайки PP5/2 (Cefor Ingenierie)
Марка:  PP5/2
Фирма-изготовитель:  Cefor Ingenierie
Страна происхождения:  Франция
Год выпуска:  2007
Количество единиц:  1

Установка напыления тонких пленок металлов SEGI-RFA3-4TR
Марка:  SEGI-RFA3-4TR
Фирма-изготовитель:  SEGI
Страна происхождения:  Соединённые Штаты Америки
Год выпуска:  2008
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  нет

Установка отмывки пластин ЭМ-3027
Марка:  ЭМ-3027
Фирма-изготовитель:  УП "КБТЭМ-СО"
Страна происхождения:  Белоруссия
Год выпуска:  2009
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  нет

Установка плазменной очистки YES G500 Yield Engineering Systems
Марка:  YES-G500
Фирма-изготовитель:  Yield Engeniering System, Inc.
Страна происхождения:  Соединённые Штаты Америки
Год выпуска:  2007
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  нет

Установка резки пластин DAD3350
Марка:  DAD3350
Фирма-изготовитель:  Disco Abrasive Systems, LTD
Страна происхождения:  Япония
Год выпуска:  2007
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  нет

Установка соединения пластин и подложек Suss Microtech Substrate bonder SB6
Марка:  Substrate bonder SB6
Фирма-изготовитель:  Suss Microtech
Страна происхождения:  Германия
Год выпуска:  2007
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  нет

Установка тестирования и Уз-сварки 5630
Марка:  56ХХ
Фирма-изготовитель:  F&K Delvotec GmbH
Страна происхождения:  Германия
Год выпуска:  2007
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  нет

Установка тестирования микросистем UltraFlex (Teradyne)
Марка:  UltraFlex
Фирма-изготовитель:  Teradyne Inc.
Страна происхождения:  Соединённые Штаты Америки
Год выпуска:  2007
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  не указано

Установка формирования шариковых выводов с возможностью термо- и ультразвуковой сварки выводов многоуровневых корпусов
Марка:  5310
Фирма-изготовитель:  F&K Delvotec GmbH
Страна происхождения:  Германия
Год выпуска:  2007
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  нет

Энергодисперсионный спектрометр Quantax XFlash 6 с модульной системой дифракции обратнорассеянных электронов QUANTAX CrystAlign 200
Марка:  Quantax XFlash 6
Фирма-изготовитель:  Bruker Corporation
Страна происхождения:  Германия
Год выпуска:  2013
Количество единиц:  1
Наличие сертификата и других признаков метрологического обеспечения:  не указано

Услуги ЦКП: (номенклатура — 102 ед.)

Для подачи заявки на оказание услуги щелкните по ее наименованию

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Информационно-телекоммуникационные системы
Краткое описание услуги:  Разработка технологии изготовления микросхем со встроенной энергонезависимой памятью с минимальными топологическими размерами 90 нм и освоение производства серии СБИС для смарт карт на её основе

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Внутренний визуальный контроль ОСТ11 073.013, 405-1.1 - метод предназначен для контроля кристаллов полупроводниковых микросхем, включая кристаллы третьей и высшей степени интеграции с металлизацией, защищенной и незащищенной диэлектрической пленкой и контроля качества сборки ИС

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Информационно-телекоммуникационные системы; Транспортные и космические системы

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Герметизация корпуса

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Измерение магнитных свойств поверхности изделий микросистемной техники с пространственным разрешением в нанометровом диапазоне

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Измерение параметров энергоносителей в системах теплоэнергетики

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Измерение топологических элементов на фотошаблонах

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Измерение точностных параметров фотошаблонов

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Испытание выводов на воздействие растягивающей силы ОСТ11 073.013, 109-1

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Испытание гибких проволочных и ленточных выводов на изгиб ОСТ11 073.013, 110-3

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Испытание датчиков контроля расхода энергоносителей в системах теплоэнергетики

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Испытание изделий МСТ и ЭКБ на воздействие внешних влияющих факторов

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Испытание на вибропрочность ОСТ11 073.013, 103-1.1, 103-1.3 - проводится с целью проверки способности микросхем противостоять разрушающему действию вибрации и сохранять внешний вид и параметры в пределах норм установленных в ТУ на микросхемы после ее воздействия

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  _не указано
Краткое описание услуги:  Испытание на виброустойчивость ОСТ11 073.013, 102-1 - проводится с целью проверки способности микросхем выполнять свои функции и сохранять внешний вид и параметры в пределах норм установленных в ТУ на микросхемы в условиях и после воздействия синусоидальных вибраций в заданных режимах

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Испытание на влагостойкость в циклическом режиме ОСТ11 073.013, 207-4 - проводится с целью ускоренной оценки устойчивости микросхем и материалов, из которых они изготовлены, к разрушительному действию высокой влажности и температуры, характерных для тропического климата

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Испытание на воздействие акустического шума ОСТ11 073.013, 108-1, 108-2

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Испытание на воздействие атмосферного повышенного давления ОСТ11 073.013, 406-1, 210-1

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Испытание на воздействие атмосферного пониженного давления ОСТ11 073.013, 209-1

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Испытание на воздействие изменения температуры ОСТ11 073.013, 205-1, 205-3 - проводится с целью определения способности микросхем сохранять свой внешний вид и параметры после воздействия изменения температуры среды в пределах значений, установленных в ТУ на микросхемы

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Испытание на воздействие инея и росы с покрытием лаком ОСТ11 073.013, 206-1

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Испытание на воздействие линейных ускорений ОСТ11 073.013, 107-1 - проводится с целью проверки способности микросхем противостоять разрушающему действию линейного ускорения и сохранять свои параметры после воздействия линейного ускорения

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Испытание на воздействие одиночных ударов ОСТ11 073.013, 106-1 - проводится с целью проверки способности микросхем противостоять разрушающему действию механических ударов одиночного действия и сохранять внешний вид и параметры после воздействия ударов

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Испытание на воздействие очищающих растворителей ОСТ11 073.013, 411-1 - проводят с целью проверки стойкости к воздействию очищающих растворителей наружных материалов (неметаллических покрытий) и маркировки микросхем выполненной лакокрасочными материалами, и (или) определение способности микросхем сохранять свои параметры в пределах значений, указанных в ТУ

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Испытание на воздействие плесневых грибов ОСТ11 073.013, 214-1

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Испытание на воздействие повышенной влажности воздуха (длительное) с покрытием лаком ОСТ11 073.013, 207-2

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Испытание на воздействие повышенной влажности воздуха (кратковременное) ОСТ11 073.013, 208-2 - проводится: а) с целью выявления технологических дефектов, если специфика производства и конструктивные особенности изделий таковы, что дефекты могут быть выявлены кратковременным испытанием; б) с целью выявления дефектов, которые могут возникнуть при других видах испытаний. Микросхемы испытывают без электрической нагрузки в камере влаги

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Энергоэффективность, энергосбережение, ядерная энергетика

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Испытание на воздействие пониженного атмосферного давления ОСТ11 073.013, 209-4

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Испытание на воздействие соляного тумана с покрытием лаком 3 слоя ОСТ11 073.013, 215-1

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Испытание на воздействие статической пыли ОСТ11 073.013 213-1 - проводится с целью проверки способности микросхем работать в среде с повышенной концентрацией пыли

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Испытание на герметичность ОСТ11 073.013, 401-8, 401-9 - представляет собой приборную проверку герметичности микросхем путем обнаружения утечки введенного в них элегаза или содержащегося в них воздуха

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Испытание на пожарную безопасность ОСТ11 073.013, 410-1, 410-2 - проводится с целью оценки соответствия микросхем требованиям по обеспечению пожарной безопасности, установленным в ТЗ и ТУ на микросхемы

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Испытание на прочность при свободном падении ОСТ11 073.013, 408-1

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Испытание на способность к пайке ОСТ11 073.013, 402-1

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Испытание на теплостойкость при пайке ОСТ11 073.013, 403-1

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Испытание на хранение при повышенной температуре ОСТ11 073.013,201-1.1

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Испытание на чувствительность к разряду статического электричества ОСТ11 073.013, 502-1, 502-1а - проводится с целью определения допустимых значений статического электричества для микросхем и определения их соответствия заданному в технической документации допустимому значению статического электричества

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Испытание соединения кристалл- подложка на сдвиг ОСТ11 073.013, 115-1 - проводится с целью определения прочности соединений между кристаллом и держателем или подложкой и оценки качества крепления кристалла

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Энергоэффективность, энергосбережение, ядерная энергетика

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Энергоэффективность, энергосбережение, ядерная энергетика

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Исследование возможности формирования верхнего слоя металлизации цифровых интегральных схем

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Транспортные и космические системы
Краткое описание услуги:  Исследование и разработка узлов схемы обработки сигналов 3-х осевого пьезогироскопического механизма

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  _не указано
Краткое описание услуги:  Исследование перспективных конструкций и технологических процессов изготовления генераторных приборов на алмазном теплоотводе с целью увеличения их выходной мощности

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Исследования в области основных направлений развития научно-технологической базы высокоплотных технологий

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Калибровка измерительных специализированных технических средств, предназначенных для измерения электрических, геометрических и оптических параметров изделий МСТ и ЭКБ

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Контроль параметров структуры рельефа поверхности на кремниевых пластинах в процессе изготовления изделий нано-микросистемной техники

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Контроль прочности сварного соединения ОСТ11 073.013, 109-4 - проводится с целью проверки прочности сварных соединений проволочных и ленточных выводов с контактными площадками кристалла, подложки (для гибридных схем) или траверсами корпуса и перемычек схем

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Контроль свободно перемещающихся частиц внутри корпуса по уровню шума

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Контроль содержания паров воды внутри корпуса ОСТ11 073.013, 222-1, 222-2

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Контроль топологи и поиск дефектов на фотошаблонах

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Контроль топологии и поиск дефектов на фотошаблонах

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Кратковременное испытание на безотказность длительностью 1000 ч. - проводится с целью периодического контроля качества микросхем и проверки стабильности технологического процесса изготовления

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Кратковременное испытание на безотказность длительностью 3000 ч. ОСТ11 073.013, 700-2,1

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Лазерная ретушь на фотошаблонах

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  _не указано
Краткое описание услуги:  Межоперационная и финишная отмывки фотошаблонов

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Монтаж пелликлов на фотошаблонах

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Неразрушающий рентгеновский контроль полупроводниковых приборов

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Определение запасов устойчивости к воздействию механических , тепловых и электрических нагрузок (граничные испытания) ОСТ11 073.013, 422-1 - проводится при проведении приемки ОКР с целью определения: запасов устойчивости микросхем и корпусов к различным видам внешнего воздействия; предельных значений электрических режимов и минимальных значений предельно допустимых электрических режимов эксплуатации; резонансных частот микросхем

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Организация и осуществление повышения квалификации сотрудников

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Организация и проведение стажировки

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Проведение высокоточных измерений толщин слоев, показателей преломления и состава в многослойных структурах МСТ и ЭКБ

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Проведение работ по препарированию СБИС, получению изображений их топологических слоёв в оптическом или электронном микроскопе

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Проведение технологических операций жидкостного травления кремния

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Проведение технологических операций термического окисления кремния

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Проведение технологических операций фотолитографии и оптического контроля

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Проверка внешнего вида микросхем ОСТ 11 073.013,405-1.3 - проводится с целью определения соответствия внешнего вида требованиям ТУ, образцам внешнего вида или "Описанию образцов внешнего вида".

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Проверка габаритных размеров индивидуальной, групповой, дополнительной и транспортной тары ОСТ11 073.013, 404-2 - проводится с целью определения соответствия габаритных размеров индивидуальной, групповой, дополнительной и транспортной тары технической документации и ТУ

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Проверка габаритных, установочных и присоединительных размеров ОСТ11 073.013, 404-1 - проводится с целью определения соответствия габаритных, установочных и присоединительных размеров микросхем требованиям ТУ на микросхемы

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Проверка качества маркировки ОСТ11 073.013, 407-1 - осуществляется с целью определения содержания и разборчивости маркировки

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Проверка массы микросхемы ОСТ11 073.013, 406-1 - проводится с целью проверки соответствия массы микросхем требованиям, установленным в ТУ на микросхемы

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Проверка способности к пайке облуженных выводов без дополнительного облуживания после хранения в течение 12 месяцев ОСТ11 073.013, 402-1 - проводится с целью проверки выводов микросхем легко смачиваться припоем

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Проверка статических параметров ОСТ11 073.013, 500-1, 203-1, 201-2,1 - проводится с целью проверки соответствия электрических параметров нормам, установленным в ТУ. Испытания проводят средствами измерений, приборами и приспособлениями, удовлетворяющими требованиям стандартов на методы измерения электрических параметров микросхем

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Информационно-телекоммуникационные системы
Краткое описание услуги:  Разработка аппаратуры электронной (АЭ)

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Разработка комплекса методик калибровки и поверки оборудования для диагностики внутренних поверхностей открытых и глухих каналов в агрегатах и узлах механизмов в машиностроительной и авиакосмической отраслях методом профиламетрии

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Энергоэффективность, энергосбережение, ядерная энергетика
Краткое описание услуги:  Разработка опытного образца аппаратно-программного комплекса системы контроля процессов эксплуатации и энергопотребления объектов недвижимости

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Разработка технологии и организация производства имплантируемого насоса длительной механической поддержки кровообращения для пациентов с тяжелыми формами сердечной недостаточности

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Разработка эскизного проекта, технического проекта и стендов контроля для микросхемы изменения емкостей чувствительного элемента мостового диффиренциального типа в номинированное значение электрического напряжения для измерителей линейного ускорения

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Четырехпроводной метод измерения абсолютного электрического сопротивления индивидуальных нанопроволок с применением фокусированного ионного пучка

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Сборка образцов изделий СЦС ТЕАЦ3.057.031

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Физико-химическая обработка фотошаблонов

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Экспонирование резиста на электронно-лучевом генераторе изображения

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем
Краткое описание услуги:  Экспонирование фоторезиста на лазерном генераторе изображения

Приоритетные направления (указ Президента РФ N 899):  Индустрия наносистем; Информационно-телекоммуникационные системы

Методики измерений, применяемые в ЦКП: (номенклатура — 110 ед.)

Испытания по ГОСТ 20.57.406 Метод 102, 103, 104-1, 104-5

Испытания по ГОСТ 20.57.406 Метод 106-1

Испытания по ГОСТ 20.57.406 Метод 201, 202-1, 203, 204

Методика измерения локальной ёмкости поверхности образцов с точностью до 25 нм
Методика уникальна:  нет

Методика получения и анализа изображений, получаемых на оптическом микроскопе Nikon Eclipse, включающая особенности тепнопольной и светлопольной микроскопии отраженного и проходящего света
Методика уникальна:  нет

Экспресс-метод определения оптических характеристик n и k структуры в целом
Методика уникальна:  нет

Методика исследования процессов возбуждения автоэлектронной эмиссии
Методика уникальна:  нет

Методика определения величины плотности заряда в диэлектрической пленке методом вольт-фарадных характеристик
Методика уникальна:  нет

Методика визуализации пустот после операции бондинга

Методика герметизации корпуса

Методика групповой сборки кристаллов и соединения пластин

Методика жидкостного травления кремния

Методика измерения магнитных свойств поверхности изделий микросистемной техники с пространственным разрешением в нанометровом диапазоне

Методика измерения топологических элементов на фотошаблонах

Методика измерения точностных параметров фотошаблонов

Методика калибровки измерительных специализированных технических средств, предназначенных для измерения электрических, геометрических и оптических параметров изделий МСТ и ЭКБ

Методика контроля параметров структуры рельефа поверхности на кремниевых пластинах в процессе изготовления изделий нано-микросистемной техники

Методика контроля свободно перемещающихся частиц внутри корпуса по уровню шума

Методика контроля топологи и поиск дефектов на фотошаблонах

Методика межоперационной и финишной отмывки фотошаблонов

Методика монтажа пелликлов на фотошаблонах

Методика напыления тонких пленок металлов

Методика обработки корпусов

Методика пиролитических процессов и плазмостимулированного осаждения материалов

Методика плазменного, реактивно-ионного травления и обработки материалов

Методика по неразрушающему рентгеновскому контролю полупроводниковых приборов

Методика посадки кристалла в корпус

Методика проведения высокоточных измерений напряжений в пленках и подложках на этапах технологического маршрута изготовления структур функциональной электроники

Методика проведения высокоточных измерений толщин слоев, показателей преломления и состава в многослойных структурах МСТ и ЭКБ

Методика разделения пластин на кристаллы

Методика термического окисления кремния

Методика тестирования активных и пассивных фильтров

Методика тестирования аналоговых генераторов в диапазоне частот до 500 МГц

Методика тестирования аналоговых элементов АПЧ и АПФ

Методика тестирования АЦП, ЦАП

Методика тестирования буферных усилителей

Методика тестирования компараторов

Методика тестирования ОУ

Методика физико-химической обработки фотошаблонов

Методика формирования внутренних соединений

Методика фотолитографии и оптического контроля

Методика измерения распределения потенциала поверхности методом Градиентного Зонда Кельвина
Методика уникальна:  нет

Методика электрохимического осаждения слоев меди на пластине в структурах 3D сборки
Методика уникальна:  нет

Методика измерения перепадов высот в нанометровом диапазоне с использованием профилометра
Наименование организации, аттестовавшей методику :  Федеральное государственное унитарное предприятие «Всероссийский научно-исследовательский институт метрологической службы» (ФГУП «ВНИИМС»)
Дата аттестации:  16.12.2015
Методика уникальна:  нет

Методика измерения перепадов высот в нанометровом диапазоне методами сканирующей зондовой микроскопии
Наименование организации, аттестовавшей методику :  Федеральное государственное унитарное предприятие «Всероссийский научно-исследовательский институт метрологической службы» (ФГУП «ВНИИМС»)
Дата аттестации:  19.10.2015
Методика уникальна:  нет

Методика измерения линейных размеров наноструктур методами сканирующей зондовой микроскопии
Наименование организации, аттестовавшей методику :  Федеральное государственное унитарное предприятие «Всероссийский научно-исследовательский институт метрологической службы» (ФГУП «ВНИИМС»)
Дата аттестации:  19.10.2015
Методика уникальна:  нет

Методика измерений линейных размеров наноструктур методами растровой электронной микроскопии
Наименование организации, аттестовавшей методику :  Федеральное агенство по техническому регулированию и метрологии. Государственный научный метрологический институт «Всероссийский научно-исследовательский институт оптико-физических измерений» (ВНИИОФИ)
Дата аттестации:  18.12.2014
Методика уникальна:  нет

Методика плазменного реактивно-ионного травления и обработки поверхности

Методика измерения магнитооптических магнитных параметров и доменной структуры изделий нано - и микросистемной техники

Методика измерения магнитного момента магнитных и ферромагнитных наноструктур при перемагничивании спин-поляризованным током комбинированным методом АСМ/СТМ/МСМ

Методика измерения оптических характеристик и толщин металлических и диэлектрических пленок, а также многослойных оптически прозрачных структур с принципиально новыми свойствами, с использованием спектрального эллипсометра в спектральном диапазоне 190-2100 нм

Методика фазового и структурного анализа тонких пленок и наноматериалов с использованием многофункционального рентгеновского дифрактометра

Испытание на воздействие акустического шума ОСТ11 073.013, 108-1, 108-2

Испытание на воздействие соляного тумана с покрытием лаком 3 слоя ОСТ11 073.013, 215-1

Испытание на воздействие инея и росы с покрытием лаком ОСТ11 073.013, 206-1

Испытание на воздействие плесневых грибов ОСТ11 073.013, 214-1

Испытание на воздействие атмосферного пониженного давления ОСТ11 073.013, 209-1

Испытание на воздействие атмосферного повышенного давления ОСТ11 073.013, 406-1, 210-1

Испытание на хранение при повышенной температуре ОСТ11 073.013,201-1.1

Испытание на воздействие повышенной влажности воздуха (длительное) с покрытием лаком ОСТ11 073.013, 207-2

Испытание на прочность при свободном падении ОСТ11 073.013, 408-1

Испытание на воздействие пониженного атмосферного давления ОСТ11 073.013, 209-4

Испытание гибких проволочных и ленточных выводов на изгиб ОСТ11 073.013, 110-3

Кратковременное испытание на безотказность длительностью 3000 ч. ОСТ11 073.013, 700-2,1

Испытание выводов на воздействие растягивающей силы ОСТ11 073.013, 109-1

Испытание на теплостойкость при пайке ОСТ11 073.013, 403-1

Испытание на способность к пайке ОСТ11 073.013, 402-1

Контроль содержания паров воды внутри корпуса ОСТ11 073.013, 222-1, 222-2

Методика испытаний датчиков контроля расхода энергоносителей в системах теплоэнергетики

Методика измерения параметров энергоносителей в системах теплоэнергетики

Методика испытания изделий МСТ и ЭКБ на воздействие внешних влияющих факторов

Проверка способности к пайке облуженных выводов без дополнительного облуживания после хранения в течение 12 месяцев ОСТ11 073.013, 402-1 - проводится с целью проверки выводов микросхем легко смачиваться припоем

Испытание на воздействие статической пыли ОСТ11 073.013 213-1 - проводится с целью проверки способности микросхем работать в среде с повышенной концентрацией пыли

Испытание на пожарную безопасность ОСТ11 073.013, 410-1, 410-2 - проводится с целью оценки соответствия микросхем требованиям по обеспечению пожарной безопасности, установленным в ТЗ и ТУ на микросхемы

Испытание на воздействие повышенной влажности воздуха (кратковременное) ОСТ11 073.013, 208-2 - проводится: а) с целью выявления технологических дефектов, если специфика производства и конструктивные особенности изделий таковы, что дефекты могут быть выявлены кратковременным испытанием; б) с целью выявления дефектов, которые могут возникнуть при других видах испытаний. Микросхемы испытывают без электрической нагрузки в камере влаги

Испытание на воздействие линейных ускорений ОСТ11 073.013, 107-1 - проводится с целью проверки способности микросхем противостоять разрушающему дейтсвию линейного ускорения и сохранять свои параметры после воздействия линейного ускорения

Испытание на воздействие изменения температуры ОСТ11 073.013, 205-1, 205-3 - проводится с целью определения способности микросхем сохранять свой внешний вид и параметры после воздействия изменения температуры среды в пределах значений, установленных в ТУ на микросхемы

Проверка габаритных, установочных и присоединительных размеров ОСТ11 073.013, 404-1 - проводится с целью определения соответствия габаритных, установочных и присоединительных размеров микросхем требованиям ТУ на микросхемы

Испытание на чувствительность к разряду статического электричества ОСТ11 073.013, 502-1, 502-1а - проводится с целью определения допустимых знгачений статического электричества для микросхем и определения их соответствия заданному в технической документации допустимому значению статического электричества

Проверка массы микросхемы ОСТ11 073.013, 406-1 - проводится с целью проверки соответствия массы микросхем требованиям, установленным в ТУ на микросхемы

Определение запасов устойчивости к воздействию механических , тепловых и электрических нагрузок (граничные испытания) ОСТ11 073.013, 422-1 - проводится при проведении приемки ОКР с целью определения: запасов устойчивости микросхем и корпусов к различным видам внешнего воздействия; предельных значений электрических режимов и минимальных значений предельно допустимых электрических режимов эксплуатации; резонансных частот микросхем

Проверка габаритных размеров индивидуальной, групповой, дополнительной и транспортной тары ОСТ11 073.013, 404-2 - проводится с целью определения соответствия габаритных размеров индивидуальной, групповой, дополнительной и транспортной тары технической документации и ТУ

Испытание на виброустойчивость ОСТ11 073.013, 102-1 - проводится с целью проверки способности микросхем выполнять свои функции и сохранять внешний вид и параметры в пределах норм установленных в ТУ на микросхемы в условиях и после воздействия синусоидальных вибраций в заданных режимах

Испытание на вибропрочность ОСТ11 073.013, 103-1.1, 103-1.3 - проводится с целью проверки способности микросхем противостоять разрушающему действию вибрации и сохранять внешний вид и параметры в пределах норм установленных в ТУ на микросхемы после ее воздействия

Испытание на воздействие одиночных ударов ОСТ11 073.013, 106-1 - проводится с целью проверки способности микросхем противостоять разрушающему действию механических ударов одиночного действия и сохранять внешний вид и параметры после воздействия ударов

Испытание на влагостойкость в циклическом режиме ОСТ11 073.013, 207-4 - проводится с целью ускоренной оценки устойчивости микросхем и материалов, из которых они изготовлены, к разрушительному действию высокой влажности и температуры, характерных для тропического климата

Кратковременное испытание на безотказность длительностью 1000 ч. - проводится с целью периодического контроля качества микросхем и проверки стабильности технологического процесса изготовления

Испытание соединения кристалл- подложка на сдвиг ОСТ11 073.013, 115-1 - проводится с целью определения прочности соединений между кристаллом и держателем или подложкой и оценки качества крепления кристалла

Контроль прочности сварного соединения ОСТ11 073.013, 109-4 - проводится с целью проверки прочности сварных соединений проволочных и ленточных выводов с контактными площадками кристалла, подложки (для гибридных схем) или траверсами корпуса и перемычек схем

Внутренний визуальный контроль ОСТ11 073.013, 405-1.1 - метод предназначен для контроля кристаллов полупроводниковых микросхем, включая кристаллы третьей и высшей степени интеграции с металлизацией, защищенной и незащищенной диэлектрической пленкой и контроля качества сборки ИС

Испытание на воздействие очищающих растворителей ОСТ11 073.013, 411-1 - проводят с целью проверки стойкости к воздействию очищающих растворителей наружных материалов (неметаллических покрытий) и маркировки микросхем выполненной лакокрасочными материалами, и (или) определение способности микросхем сохранять свои параметры в пределах значений, указанных в ТУ

Проверка качества маркировки ОСТ11 073.013, 407-1 - осуществляется с целью определения содержания и разборчивости маркировки

Испытание на герметичность ОСТ11 073.013, 401-8, 401-9 - представляет собой приборную проверку герметичности микросхем путем обнаружения утечки введенного в них элегаза или содержащегося в них воздуха

Проверка статических параметров ОСТ11 073.013, 500-1, 203-1, 201-2,1 - проводится с целью проверки соответствия электрических параметров нормам, установленным в ТУ. Испытания проводят средствами измерений, приборами и приспособлениями, удовлетворяющими требованиям стандартов на методы измерения электрических параметров микросхем

Проверка внешнего вида микросхем ОСТ 11 073.013,405-1.3 - проводится с целью определения соответствия внешнего вида требованиям ТУ, образцам внешнего вида или "Описанию образцов внешнего вида"

Методика испытания изделий с определением концентрации паров воды в газовой смеси (200-10500) млн-1
Наименование организации, аттестовавшей методику :  Государственный научный метрологический цент Открытое акционерное общество «Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума» (ОАО НИЦПВ)
Дата аттестации:  11.08.2014
Методика уникальна:  нет

Методика испытания изделий на воздействие температуры в диапазоне от минус 80 до плюс 220 ºС
Наименование организации, аттестовавшей методику :  Общество с ограниченной ответсвенностью «СОВТЕСТ АТЕ»
Дата аттестации:  11.04.2014
Методика уникальна:  нет

Методика испытания изделий с воспроизведением линейных ускорений до 50 g
Наименование организации, аттестовавшей методику :  Государственный научный метрологический цент Открытое акционерное общество «Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума» (ОАО НИЦПВ)
Дата аттестации:  02.06.2014
Методика уникальна:  нет

Методика испытания изделий с воспроизведением нагрузок от 1 N до 50 N
Наименование организации, аттестовавшей методику :  Государственный научный метрологический цент Открытое акционерное общество «Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума» (ОАО НИЦПВ)
Дата аттестации:  30.05.2012
Методика уникальна:  нет

Методика испытания изделий с воспроизведением вибрации до 20 g в диапазоне частот от 40 Гц до 200 Гц
Наименование организации, аттестовавшей методику :  Государственный научный метрологический цент Открытое акционерное общество «Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума» (ОАО НИЦПВ)
Дата аттестации:  10.06.2014
Методика уникальна:  нет

Методика испытания изделий с воспроизведением ударного ускорения от 100 g до 15000 g при длительности ударного импульса от 1 мс до 2 мс
Наименование организации, аттестовавшей методику :  Государственный научный метрологический цент Открытое акционерное общество «Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума» (ОАО НИЦПВ)
Дата аттестации:  06.12.2013
Методика уникальна:  нет

Методика испытания изделий на воздействие температуры в диапазоне от 40 ºС до 300 ºС
Наименование организации, аттестовавшей методику :  Общество с ограниченной ответсвенностью «СОВТЕСТ АТЕ»
Дата аттестации:  22.05.2012
Методика уникальна:  нет

Методика контроля микросхем с функцией томографии
Наименование организации, аттестовавшей методику :  Государственный научный метрологический цент Открытое акционерное общество «Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума» (ОАО НИЦПВ)
Дата аттестации:  31.08.2012
Методика уникальна:  нет

Методика испытания изделий с диапазоном измерения утечки газов от 5 Е-12 м3*Па/с до 1 м3*Па/с
Наименование организации, аттестовавшей методику :  Государственный научный метрологический цент Открытое акционерное общество «Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума» (ОАО НИЦПВ)
Дата аттестации:  02.06.2014
Методика уникальна:  нет

Методика испытания изделий с воспроизведением и измерением напряжения и силы постоянного тока, частоты следования прямоугольных импульсов при высоковоспроизводительном функциональном и параметрическом контроле интегральных микросхем и кристаллов в составе полупроводниковой пластины с числом выводов до 256 и рабочей частотой последовательности функционального контроля до 500 МГц
Наименование организации, аттестовавшей методику :  Государственный научный метрологический цент Открытое акционерное общество «Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума» (ОАО НИЦПВ)
Дата аттестации:  20.06.2014
Методика уникальна:  нет

Методика контроля прочности присоединения кристаллов и прочности сварных соединений
Наименование организации, аттестовавшей методику :  Государственный научный метрологический цент Открытое акционерное общество «Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума» (ОАО НИЦПВ)
Дата аттестации:  02.06.2014
Методика уникальна:  нет

Методика испытания изделий в диапазоне температуры от минус 85 ºС до 160 ºС с отклонением температуры от заданного значения ±2 ºС
Наименование организации, аттестовавшей методику :  Государственный научный метрологический цент Открытое акционерное общество «Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума» (ОАО НИЦПВ)
Дата аттестации:  28.05.2012
Методика уникальна:  нет

Методика испытаний технических изделий на стойкость к воздействию влажности
Наименование организации, аттестовавшей методику :  Общество с ограниченной ответсвенностью «СОВТЕСТ АТЕ»
Дата аттестации:  22.05.2012
Методика уникальна:  нет

Методика испытания изделий с воспроизведением амплитуды виброперемещения от 0,1 мм до 24,4 мм, виброскорости от 0 м/с до 1,7 м/с, ускорения от 0,1 g до 50 g в диапазоне частот от 5 Гц до 3000 Гц
Наименование организации, аттестовавшей методику :  Государственный научный метрологический цент Открытое акционерное общество «Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума» (ОАО НИЦПВ)
Дата аттестации:  02.07.2014
Методика уникальна:  нет

Методика электротермотренировки элементов функциональной электроники

Вернуться к списку ЦКП

 

Для просмотра сайта поверните экран